每日經濟新聞 2023-06-02 15:53:30
每經AI快訊，有投資者在投資者互動平臺提問：請問陸總，據您了解，目前國內下游晶圓廠是否有28nm以下缺陷檢測分析儀器，用于后期貴司高制程光刻膠的開發(fā)呢？
南大光電（300346.SZ）6月2日在投資者互動平臺表示，目前國內28nm以下制程用光刻膠缺陷檢測設備主要集中在國內晶圓廠處?，F階段，公司ArF光刻膠的產品驗證主要集中在90nm~28nm制程工藝，后續(xù)將視項目需要，確定缺陷檢測儀的選用方案。
(記者 王可然)
免責聲明：本文內容與數據僅供參考，不構成投資建議，使用前核實。據此操作，風險自擔。
如需轉載請與《每日經濟新聞》報社聯(lián)系。
未經《每日經濟新聞》報社授權，嚴禁轉載或鏡像，違者必究。
讀者熱線：4008890008
特別提醒：如果我們使用了您的圖片，請作者與本站聯(lián)系索取稿酬。如您不希望作品出現在本站，可聯(lián)系我們要求撤下您的作品。
歡迎關注每日經濟新聞APP
Copyright ? 2025 每日經濟新聞報社版權所有，未經許可不得轉載使用，違者必究。
廣告熱線? 北京: 010-57613265，?上海: 021-61283008，?廣州: 020-84201861，?深圳: 0755-83520159，?成都: 028-86512112
